第510章 十八纳米光刻机 (第2/2页)
　　
　　“如果把这块镜子放大到我们大夏一个行省那么大。”院士用了一个形象的比喻，“那么这块大地上最高的山峰或最深的峡谷，起伏绝对不能超过一根头发丝的厚度！”
　　
　　这是真正的原子级平坦。
　　
　　大夏的能工巧匠们，用离子束抛光技术，在无尘车间里耗费了数年光阴，才勉强磨出了几块合格的镜片。
　　
　　而这，还仅仅只是光刻机数万个精密零件中的冰山一角。
　　
　　为了防止光线被吸收，整个光刻过程必须在严苛的高真空环境中进行。
　　
　　为了保证套刻精度，承载硅片的机械双工作台，在高速移动和刹车时，其定位误差不能超过几纳米，这相当于两列高速行驶的动车并排行驶，误差不能超过一粒米。
　　
　　这项被命名为极光的超级工程，几乎抽干了大夏近二十年在材料学、流体力学、精密机械加工和光学领域的全部顶尖心血。
　　
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　　【神谕纪元·三五二六年】
　　
　　王都，大夏半导体核心制造基地。
　　
　　整整二十年的试错与图纸迭代。
　　
　　无数次因为碎屑污染反射镜而导致的停机清洗，无数次因为激光对焦差了微秒而导致的光源熄灭。
　　
　　今天，一台犹如一座两层楼高的小型金属宫殿般的机器，静静地矗立在最高级别的超净间内。
　　
　　这便是大夏第一台真正意义上实现量产突破的极紫外光刻机原型机。
　　
　　操作台前，已经满头白发的光学院士，用岁数大太大而忍不住颤抖的手按下了启动键。
　　
　　真空泵发出低沉的轰鸣，抽干了腔室内的最后一丝空气。
　　
　　液滴发生器开始工作，激光发生器充能完毕。
　　
　　“啪！啪！啪！”
　　
　　虽然在真空室外听不到声音，但监视屏幕上的波形图显示，那每秒五万次的微观核爆正在稳定地产生着珍贵的极紫外光。
　　
　　光束经过十几面原子级平滑的反射镜不断折叠、校正，穿过刻有复杂电路图的掩模版，最终，精准地打在了下方涂有光刻胶的硅片上。
　　
　　曝光，移动，再曝光。
　　
　　几个时辰后，第一批经过EUV光刻机曝光、并完成后续蚀刻与封装的硅晶圆，被送到了电子显微镜下。
　　
　　所有参与项目的顶尖学者，都屏住呼吸，死死地盯着屏幕上放大的微观结构。
　　
　　没有原本在深紫外光下那种边缘模糊的衍射现象。
　　
　　一道道沟壑分明、排列极其规整的晶体管栅极线路，如同神明在大地上犁出的完美沟渠，清晰地展现在众人眼前。
　　
　　测算员拿着电子游标卡尺，在屏幕上进行着比对。
　　
　　“栅极宽度，十八纳米！”
　　
　　“线路清晰，漏电率在完美阈值内！良品率达到百分之八十五以上！”
　　
　　“突破了！我们彻底跨过了二十八纳米的深渊！”
　　
　　整个超净间外侧的观察走廊上，瞬间爆发出了雷鸣般的掌声和喜极而泣的欢呼声。
　　
　　二十年的蛰伏，耗资三十七亿宝钞的大型系统工程。
　　
　　大夏终于用这把由等离子体和全反射镜打造而成的刻刀，在硅基图纸上，刻下了一笔。
　　
　　十八纳米芯片的量产，意味着大夏原本已经达到瓶颈的超级计算机，其体积可以再次缩小一半，或者算力直接翻倍。
　　
　　在那个名为大夏的帝国版图上，无论是正在轨道上孤独运行的卫星，还是地下室里推演可控核聚变参数的学者，都将因为这微小的一纳米级的跨越，而获得更加强大的算力支撑，这可能就是未来突破的关键推手之一。